三
表面做過(guò)氧化鋁涂層后的外殼，水和環(huán)氧樹脂的浸潤(rùn)性能有著十分顯著的降低，較未處理的陶瓷外殼表面的浸潤(rùn)性差。經(jīng)過(guò)射頻等離子清洗（氬氣）處理后，兩種外殼表面的狀態(tài)均有所改善，說(shuō)明等離子清洗提高了陶瓷外殼表面的浸潤(rùn)性能。其中無(wú)氧化鋁涂層的陶瓷外殼，浸潤(rùn)效果提升更加明顯，環(huán)氧樹脂的浸潤(rùn)性能顯著提升。...
2023-03-17
等離子體（plasma）對(duì)高分子材料的作用過(guò)程，通常比較復(fù)雜，有可能是在表面引入了特定官能團(tuán)，使得材料具有其它性能，或者生成了表面自由基或者形成了交聯(lián)結(jié)構(gòu)層，或者產(chǎn)生了表面刻蝕，讓其它基團(tuán)暴露，通常這些作用都不是單一的，而是以某種作用為主，多種作用共同存在。...
2023-03-15
聚烯烴有低的表面能、低的粘接性能，可被應(yīng)用于粘合、印刷、層壓等過(guò)程中，等離子體處理使EVA樹脂表面分子鏈上產(chǎn)生了極性基團(tuán)，表面能、潤(rùn)濕性等性能得到了明顯的改善。...
2023-03-14
真空等離子表面處理主要是利用氬氣、氧氣、氮?dú)獾确蔷酆闲詿o(wú)機(jī)氣體的等離子體，當(dāng)它們作用于材料表面時(shí)，就會(huì)在材料表面產(chǎn)生物理或化學(xué)反應(yīng)。參與反應(yīng)的粒子很多，不僅有自由基、激發(fā)態(tài)的分子以及離子，可以生成新的官能團(tuán)，也包括等離子體輻射紫外光的作用，促使某些反應(yīng)的發(fā)生。...
2023-03-13
為去除焊片的氧化層，采用射頻等離子清洗焊片表面的方法可以得到新鮮的焊料表面，并且增強(qiáng)焊料的潤(rùn)濕性。并且采用等離子清洗，不會(huì)造成焊劑污染。...
2023-03-13
氧等離子不僅可以改變ITO表面的化學(xué)組成，還可以去除表面含有的碳，對(duì)OLED器件性能具有較好的提升作用；而氬等離子體雖然不能改變器件表面的化學(xué)組成，但是可以對(duì)表面清潔，同時(shí)去除吸附在器件表面的氧，提升器件性能。...
2023-03-08
相對(duì)其他等離子體射流，大氣壓低溫等離子體射流具有許多優(yōu)點(diǎn)。首先，它可在開放空間產(chǎn)生，不需要昂貴復(fù)雜的真空系統(tǒng)，節(jié)約成本，也保證了安全，不受被處理物尺寸限制，能夠?qū)щ娏Ｗ?、激發(fā)態(tài)粒子、自由基等各種活性成分輸運(yùn)到被處理物表面，保證處理效果。...
2023-03-07
等離子處理的PMMA表面上的羥基（O-H）經(jīng)硅烷化反應(yīng)組裝上偶聯(lián)劑中的硅氨基（Si-NH2），然后二次等離子體處理硅烷化后的PMMA，將帶有氨基官能團(tuán)的烷基硅分子降解為硅羥基（Si-OH），用于與等離子處理后的PDMS的硅羥基-Si-OH發(fā)生反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)鍵合...
2023-03-06
與現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)基板的清洗技術(shù)對(duì)比而言，等離子體清洗取代了液體化學(xué)清洗方法，以避免對(duì)基板上的功率器件和電路布線的腐蝕，同樣，取代了激光清洗方法，以減少粉塵的產(chǎn)生和對(duì)基板的沾污。...
2023-03-01
Plasma表面清潔主要分成兩個(gè)反應(yīng)過(guò)程。在化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中，活性粒子與有機(jī)分子結(jié)合，發(fā)生解鏈，中間形成新的不穩(wěn)定基團(tuán)，最后分解成易揮發(fā)的二氧化碳和水；在物理反應(yīng)過(guò)程中，活性粒子在電場(chǎng)作用下，以一定速度和能量撞擊被清洗物體表面，克服分子與表面的結(jié)合力，使表面污染物分子分解或脫落，達(dá)到清洗的目的。...
2023-02-27
真空等離子清洗機(jī)是用等離子體通過(guò)化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行分子水平處理，去除沾污，改善表面性能的工藝過(guò)程。對(duì)應(yīng)不同的污染物，應(yīng)采用不同的清洗工藝和頻率。 ...
2023-02-23
真空等離子清洗機(jī)處理效果與真空度密切相關(guān)，只有在特定的真空度及等離子氣體氛圍內(nèi)，才能得到最佳的改性效果。真空度對(duì)材料表面處理效果影響較大，當(dāng)真空度較小時(shí)，高速電子數(shù)目的增多使得各粒子的平均自由動(dòng)程降低，自由電子碰撞獲得的能量不足以提供足夠被電離的活性粒子，活性基團(tuán)數(shù)目少。當(dāng)真空度較高時(shí)，高速電子數(shù)目減少，電子自由動(dòng)程大，碰撞機(jī)會(huì)減少使得真正被電離的活性粒子數(shù)目少，活性基團(tuán)數(shù)目少。...
2023-02-22
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
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